多谢

阿斯特珑。
日本70年代三流小厂家的放大头，天赛结构。

看做工像国产的。可能也是改开后的某公司生产的。

请教这是个啥牌子的方大头？

个头虽小五脏俱全——瑞士造的135双反相机，现在的确是收藏经典相机的好时机！

你好，恕本人孤陋寡闻。我还是第一次听说此头啊。

昆仑大侠的德国蔡司系列也是我喜欢的东东。

老熊，我觉得现在是收藏一些经典名机的好时候。北京一平米的房价就可以收一堆了。

   Kievuser大侠：能不能给介绍和探讨下弗雷泽镜头超大景深的奥妙？

Kievuser大哥的贴留个记号！全金属的宝贝！德累斯顿的辉煌！

还是全金属——

本人多年前收到的此款头。价格已经忘记了。

镜头资料。。。。

35mm film cameras such as the COP plant "LenKINAP" produced since 1938. The first Soviet newsreel manual 35mm camera with a spring drive. CS-Series is a copy of camera production Eyemo Bell & Howel. In subsequent years, the famous Soviet movie camera Konvas was made on the basis of this camera. For cine lenses produced f-28; 35; 50; 75; 135 mm. This lens is in very good condition. The lenses are clean, free from damage and dust. The lens is released in 1940, under the number №32. This is evident from the serial number on the front panel. This is a very early model labeling oks and there is not yet listed Such lenses are a museum rarity! Ш-1-б. (not for the buyer. the cipher storage)

值得标记一下的网址。

http://www.naturfotograf.com/lens_spec.html

“高端大幅6*9放大镜头上海照相机三厂生产彩虹牌F80/5.6
库存上海照相机三厂生产彩虹牌F80/5.6（广角）放大镜头，可以用来改成移轴镜头。
用途：F80（广角）镜头用于135（2.4*3.6）120（6*6）及大尺寸（6*9）照相底片放大用。镜头鉴别率高，层次好，色差好，在整个放大倍率范围内都具有极好的成像清晰度。特别是视角大，放大高底低，是最大优点。
指标：焦距；F=80MM最大相对孔径：D/F=1/5.6象面尺寸：60*90MM鉴别率：30线对/MM
畸变：0.3%接口：M39‘。

网上资料， 原来是彩虹牌放大头。后期简化结构，改叫海鸥牌。

有幸也收到一只。

某宝卖家关于某国产放大头的介绍。相当不错啊。

”M39螺口东光82MM1:5.6放大镜头

东光像场6*6公分，接近莱卡90/4   6*7公分像场
可以用于移轴拍摄方式使用
通过上海华侨摄影协会实拍，试验，比莱卡的镜头各项指标还要好，是德国镜片制造，解放初期，中国仿制罗德刚80焦段水平超过罗德刚，
镜头是库存的，成色很好，镜片3无，没有前后盖，一个纸盒包装。
这个放大镜头是无级光圈的。也没有光圈刻度，所以刚刚使用有点不方便，用惯了就好了。

这个放大镜头镀膜很像那个珠江S201镜头那样的，蓝深深的，，有镧系玻璃的特征。从实拍的样张来看，非常油润，这个油润程度绝对超越俄罗斯小微距的，最值得一体的是这个头的丝般质感很有美能达镜头的味道但是还是比美能达镜头要油润些的。

本放大头有长春东北光学研究所研制，可以说是国产镀膜最好的放大头。纯金属放大头。

本放大头的最大的特点：

老式镜片设计，镜片的物理的公差极小，光轴精度极高。出片成像及其优异，看样片。”

我也有这只 天鹅75F3.5放大头。好像与文中说的75F4.5不是同一只头？

网上关于天鹅牌放大头的介绍。

天鹅75F4.5放大镜头M39螺口全副不打板

天鹅 像场 6*9公分，超过莱卡90/4镜头像场6*7公分可以用于移轴拍摄方式使用
本放大头有长春东北光学研究所研制，可以说是国产做工、质量非常好的放大头之一，根据德国罗顿斯特仿制的放大头。

通过上海华侨摄影协会专家实拍，试验，与罗顿斯特的镜头各项指标相当，新中国成立后用德国镜片制造，中国仿制罗德刚75焦段，出片锐度好，颜色纯真的德国风格。
天鹅75F4.5放大镜头M39螺口是库存的放大镜头，没有任何的使用记录和使用痕迹，纯金属放大头。

天鹅75F4.5放大镜头，用于拍摄建筑接片，建筑不会变形。

很久没去这个论坛了。欢迎喜欢中国机械表的同好参与讨论，交流信息。

http://forums.watchuseek.com/f72/

早期国产35毫米电影摄影镜头。从来没用过。

起点相机各年的产量如下. 资料来自KMZ档案.

1958-1104
1959-4064
1960-8100
1961-20150
1962-21881
1963-20001
1964-1197
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总计: 76503

最常见的75MM 放大头。一些光圈叶片很多的可能是专门设计的放大头。

近来收到的部分国产放大头。都可以转到数码相机上用。而且它们价格十分低廉。收一堆也用不了多少钱。

当然如果有价廉物美的外国产放大头也可以顺手拿下。听说FUJINON EX 系列的就不错。

1960年代生产的两款长城牌放大头，做工相当精良。其中75/4.5那只好像比较少见些。最近突然对早期国产放大头有了兴趣。准备考察一下。

另一款少见的国产高档放大头，也是4组6片结构。90年代生产。 过去对这些国产高档放大头一无所知啊。

说明书也比一般的国产放大头详细些。

少见的国产海鸥牌广角放大头，80/5.6 4组6片结构。可以覆盖6X9 CM 画幅。

过去，光刻机只有一个工作台，所有流程都在一个工作台上完成。双工件台系统的出现，使得光刻机能够在不改变初始速度和加速度的条件下，当一个工作台在进行曝光工作的同时，另外一个工作台可以同时进行曝光之前的预对准工作，使得光刻机的生产效率提高大约 35%——ASML 的 TWINSCAN NXE3300B 型光刻机，分辨率小于 22nm，生产效率可以达到 125片/小时。
虽然看起来仅仅是加一个工作台，但技术难度却不容小觑——对换台的速度和精度有非常高的要求，如果换台速度慢，则影响光刻机工作效率；如果换台精度不够，则可能因此而影响了后续扫描光刻等步骤的正常开展。
特别是对浸没式光刻机而言，由于物镜和硅片之间增加一层特殊的液体，如何使液体在换台时依旧停留在物镜和硅片之间，不因换台发生流动，则是一个不小的技术难题。另外，还有避免污染的问题。
现今技术成熟的双工件台系统主要是导轨式，驱动方式主要分为气浮驱动和磁悬浮驱动。目前，ASML公司已成功研发了磁悬浮工件台系统，使得系统能够忽略摩擦系数和阻尼系数，其加工速度和精度是机械式和气浮式工件台所无法比拟的。不仅如此，ASML公司基于磁悬浮工件台的基础，研发了无导轨式的平面编码磁悬浮工件台系统，通过平面编码器对工作台进行精确定位，进一步提升了精度。
诚然，由于α光刻样机采用双工件台系统的具体技术细节还未披露，笔者也无从了解α光刻样机采用双工件台系统的定位精度、工件台和掩膜台之间的同步误差等数据，以及是气浮驱动和磁悬浮驱动，更无从了解α光刻样机采用双工件台系统是否能达到ASML公司的技术水平。不过，α光刻样机采用双工件台系统已获得专利授权122项，而且专家组认为，该双工件台系统的关键技术指标已达到国际同类光刻机双工件台水平。

光刻机的种类和历代改进
光刻机用途广泛，除了高端大气上档次的前道光刻机之外，还有用于LED制造领域投影光刻机和用于芯片封装的后道光刻机，虽然在前道光刻机上国内厂商和ASML差距如同鸿沟，但后道光刻机和封装光刻机国内厂商不仅都能制造，还占据了不低的市场份额。
因此，笔者在这里只介绍技术含金量最高的前道光刻机。前道光刻机经历了六代改进：
第一代是接触式光刻机。光刻机是掩模直接贴在硅片上曝光的，类似与投影，会造成较大的污染。
第二代是接近式光刻机。对接触式光刻机进行了改良，掩模和硅片之间留了点空隙，但成像不好。
第三代是全硅片扫描投影式光刻机。光刻机改良了扫描投影模式，并加入了物镜，进行光学矫正。
第四代是反射扫描摄影式光刻机。
第五代是步进式扫描投影式光刻机。顾名思义，就是采用了步进式扫描投影。
第六代就是EUV。EUV还使用反射镜取代了投射镜，还使用了极紫外光源，EU这俩字母就是极紫外的缩写，波长是13.5nm。因为用波长极短，很容易被任何东西吸收，包括空气，所以腔体内是真空系统。ASML研发EUV花了十来年时间，数百亿美元，可知其技术难度。EUV光刻机的售价曾为1亿美元一台。

光源、物镜目前还无法完全摆脱进口依赖
光源是光刻机的核心部件之一。在光刻机改进中，所使用的光源也不断改进发展：
第一代是436nm g-line。
第二代是365nm i-line。
第三代是248nm KrF。
第四代是193nm ArF。
最新的是13.5nm EUV。
目前，在集成电路产业使用的中高端光刻机采用的是193nmArF光源和13.5nmEUV光源。
193nmArF也被称为申紫外光源。使用193nmArF光源的干法光刻机，其光刻工艺节点可达45nm，采用浸没式光刻、光学邻近效应矫正等技术后，其极限光刻工艺节点可达28nm。
浸没式光刻是指在物镜和硅片之间增加一层特殊的液体，由于液体的折射率比空气的折射率高，因此成像精度更高。因此，也就有了浸没式光刻的叫法。
而当工艺尺寸缩小到22nm时，则必须采用辅助的两次图形曝光技术。然而使用两次图形曝光，会带来两大问题:一个是光刻加掩模的成本迅速上升，另一个是工艺的循环周期延长。因而，在22nm的工艺节点，光刻机处于EUV与ArF两种光源共存的状态。
对于使用液浸式光刻+两次图形曝光的ArF光刻机，工艺节点的极限是10nm，之后将很难持续。EUV光刻机，则有可能使工艺制程继续延伸到5nm。
中国在激光技术上颇有成就，国内有的单位用汞灯做光源，还由单位研发出了独一无二的固态深紫外光源，但目前，固态深紫外光源还并未用于光刻机制造，在光源上还无法彻底摆脱进口。在物镜方面，虽然国防科大精密工程创新团队自主研制的磁流变和离子束两种超精抛光装备，实现了光学零件加工的纳米精度。但浸没式光刻物镜异常复杂，涵盖了光学、机械、计算机、电子学等多个学科领域最前沿，二十余枚镜片的初始结构设计难度极大——不仅要控制物镜波像差，更要全面控制物镜系统的偏振像差。因此，在现阶段国内物镜也无法完全替代进口产品。
据了解，光源和物镜同属核高基02专项重点公关项目之一，相信不久以后会有好消息。
结语
本次“光刻机双工件台系统样机研发”项目仅仅是核高基02专项的一部分，而且很有可能是第一个通过核高基02专项验收的项目。相对于中科院光电技术研究所研制的紫外纳米压印光刻机，本次的技术突破——“光刻机双工件台系统”则是用于65nm前道光刻机的一项关键技术。虽然在技术上而言，65nm光刻机与ASML的差距依然巨大，但却是中国光刻机实现国产化替代万里※※的第一步。
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资料。。。。。